【神奈川／開成町】薬液処方開発｜エッチング液・洗浄液等半導体製造プロセス用洗浄液事業
企業情報
| 法人名 | 非公開企業09 |
|---|---|
| 設立 | 年月 |
募集内容
| 会社名 | 非公開企業09 |
|---|---|
| 募集職種 | 開発/製造 |
| 雇用形態 | 正社員 |
| 仕事内容 | 概要 富士フイルムの半導体材料事業は、長年培ってきたフォトレジストを代表としたパターニング技術を、半導体デバイスに応用することから開始し、現在ではパターニングから半導体材料/電子材料全般への拡大を図っています。 本ポジションでは、半導体製造プロセス用洗浄液(特にCMP後洗浄液・ドライエッチ後洗浄液・エッチング液・CMPスラリー)の薬液処方開発および市場導入、量産品の課題解決を担っていただきます。 業務内容 半導体製造プロセス用洗浄液事業において、薬液開発、国内および海外の幅広い顧客対応（顧客ニーズ把握～商品企画～顧客への導入～量産品立ち上げ）を担っていただきます。 具体的には ・薬液開発（※海外関係会社と協業） ・国内外の顧客、顧客候補とのコンタクトを通じた顧客ニーズのリサーチ ・顧客ニーズに対応した評価系探索・構築 ・顧客への新製品導入活動 ・量産品立ち上げ 仕事の魅力 半導体製造プロセスにおいて洗浄工程は欠かせぬ工程であり、歩留まり向上のためのキープロセスとなります。前工程・後工程関わらず、半導体の微細化・市場の成長に伴って洗浄薬液の課題やニーズが増えており、今後も技術革新が期待されています。洗浄工程は直前の工程により洗浄対象が変化するため、顧客との議論・情報収集が重要であり、その情報に基づく、評価系構築～薬液開発～量産立ち上げ、という一連の研究開発プロセス全てに関わることができます。 CMP（化学機械研磨）工程においては、研磨液開発チームとCMP後洗浄液開発チームがグローバルな共同開発体制を構築し、Total solutionとしてCMP関連材料(スラリー＋洗浄液)を開発しているため、日常的に海外との協業が行われており、アメリカ・台湾への海外駐在のチャンスもあります。 変更の範囲：会社の定める業務 |
| 対象となる方 | ＜最終学歴＞大学院、大学卒以上 ＜応募資格/応募条件＞ 必須条件： ・大卒以上 ・半導体分野における洗浄液・ウェットエッチング・CMPいずれかの知見がある方 ・オーナーシップ、コミュニケーション能力、迅速な行動力、的確な判断力を有する方 歓迎条件： ・日常会話レベルの中国語スキル ・半導体プロセス装置を使用した開発経験または知識 ・顧客サポート対応、顧客との協業体制の構築、商品化／事業化の経験 ・海外顧客との打合せで概要把握や議論ができるレベルの英語力 ・半導体設備の評価選定、仕様調整、導入経験 ・特許出願業務の経験 |
| 給与 | 想定年収 3,000,000円 ～ 7,000,000円 700万円～1,300万円 |
| 勤務地 |
神奈川県 神奈川県 開成町 |
